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PA36e

腔室尺寸 360×500mm(H)

極限真空 ≤3×10^-5Pa 保壓12小時(shí) 壓強(qiáng)≤5Pa

膜厚均勻性 ≥95% 重復(fù)性 ≥95%

基片尺寸 ≤100mm×100mm

有9個(gè)mask位置 每個(gè)基片對(duì)應(yīng)3個(gè)位置

全自動(dòng)控制軟件

PA300e

腔室尺寸 ≤300mm(L)×300mm(W)×500mm(H)

極限真空 ≤3×10^-5Pa 保壓12小時(shí) 壓強(qiáng)≤5Pa

膜厚均勻性 ≥95% 重復(fù)性 ≥95%

基片尺寸 ≤100mm×100mm

有9個(gè)mask位置 每個(gè)基片對(duì)應(yīng)3個(gè)位置

全自動(dòng)控制軟件

PA400e

腔室尺寸 ≤400mm(L)×400mm(W)×600mm(H)

極限真空 ≤3×10^-5Pa 保壓12小時(shí) 壓強(qiáng)≤5Pa

膜厚均勻性 ≥95% 重復(fù)性 ≥95%

基片尺寸 ≤135mm×135mm  

有19個(gè)mask位置 每個(gè)基片對(duì)應(yīng)3個(gè)位置

PA500e

腔室尺寸 ≤500mm(L)×500mm(W)×600mm(H)

極限真空 ≤3×10^-5Pa 保壓12小時(shí) 壓強(qiáng)≤5Pa

膜厚均勻性 ≥95% 重復(fù)性 ≥95% 速率穩(wěn)定性≥95%

基片尺寸 ≤156mm×156mm ≤30×30mm 數(shù)量4片

有12個(gè)mask位置 每個(gè)基片對(duì)應(yīng)3個(gè)位置

PA600e

腔室尺寸 ≤600mm(L)×600mm(W)×660mm(H)

極限真空 ≤3×10^-5Pa 保壓12小時(shí) 壓強(qiáng)≤5Pa

膜厚均勻性 ≥95% 重復(fù)性 ≥95% 速率穩(wěn)定性≥95%

基片尺寸 ≤210mm×210mm

蒸發(fā)源 4-12任意組合蒸發(fā)源

全自動(dòng)控制軟件

PA700e

腔室尺寸 ≤700mm(L)×700mm(W)×800mm(H)

極限真空 ≤3×10^-5Pa 保壓12小時(shí) 壓強(qiáng)≤5Pa

膜厚均勻性 ≥95% 重復(fù)性 ≥95% 速率穩(wěn)定性≥95%

基片尺寸 ≤2300mm×300mm

蒸發(fā)源 4-12任意組合蒸發(fā)源

全自動(dòng)控制軟件

PA400s

PA200d

外形尺寸：1000mm×700mm×1000mm
腔室尺寸：Φ300mm×150mm
襯底規(guī)格：4-12寸單片
溫度： RT-400 oC

簡(jiǎn)單易用的圖形用戶界面 (GUI)

利用時(shí)間復(fù)用技術(shù)快速創(chuàng)建、優(yōu)化和定制新的工藝配方

安全、可靠的操作和維護(hù)

獨(dú)特的用戶界面編輯、存儲(chǔ)、使用和復(fù)制工藝方案

簡(jiǎn)單易用的圖形用戶界面 (GUI)

快速創(chuàng)建、優(yōu)化和定制新的工藝配方

安全、可靠的操作和維護(hù)