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腔室尺寸 360×500mm(H)

極限真空 ≤3×10^-5Pa 保壓12小時 壓強≤5Pa

膜厚均勻性 ≥95% 重復(fù)性 ≥95%

基片尺寸 ≤100mm×100mm

有9個mask位置 每個基片對應(yīng)3個位置

全自動控制軟件

腔室尺寸 ≤300mm(L)×300mm(W)×500mm(H)

極限真空 ≤3×10^-5Pa 保壓12小時 壓強≤5Pa

膜厚均勻性 ≥95% 重復(fù)性 ≥95%

基片尺寸 ≤100mm×100mm

有9個mask位置 每個基片對應(yīng)3個位置

全自動控制軟件

腔室尺寸 ≤400mm(L)×400mm(W)×600mm(H)

極限真空 ≤3×10^-5Pa 保壓12小時 壓強≤5Pa

膜厚均勻性 ≥95% 重復(fù)性 ≥95%

基片尺寸 ≤135mm×135mm  

有19個mask位置 每個基片對應(yīng)3個位置

腔室尺寸 ≤500mm(L)×500mm(W)×600mm(H)

極限真空 ≤3×10^-5Pa 保壓12小時 壓強≤5Pa

膜厚均勻性 ≥95% 重復(fù)性 ≥95% 速率穩(wěn)定性≥95%

基片尺寸 ≤156mm×156mm ≤30×30mm 數(shù)量4片

有12個mask位置 每個基片對應(yīng)3個位置

腔室尺寸 ≤600mm(L)×600mm(W)×660mm(H)

極限真空 ≤3×10^-5Pa 保壓12小時 壓強≤5Pa

膜厚均勻性 ≥95% 重復(fù)性 ≥95% 速率穩(wěn)定性≥95%

基片尺寸 ≤210mm×210mm

蒸發(fā)源 4-12任意組合蒸發(fā)源

全自動控制軟件

腔室尺寸 ≤700mm(L)×700mm(W)×800mm(H)

極限真空 ≤3×10^-5Pa 保壓12小時 壓強≤5Pa

膜厚均勻性 ≥95% 重復(fù)性 ≥95% 速率穩(wěn)定性≥95%

基片尺寸 ≤2300mm×300mm

蒸發(fā)源 4-12任意組合蒸發(fā)源

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