PA300e
PA300e
腔室尺寸 ≤300mm(L)×300mm(W)×500mm(H)
極限真空 ≤3×10-5Pa 保壓12小時(shí) 壓強(qiáng)≤5Pa
膜厚均勻性 ≥95% 重復(fù)性 ≥95%
基片尺寸 ≤100mm×100mm
有9個(gè)mask位置 每個(gè)基片對(duì)應(yīng)3個(gè)位置
全自動(dòng)控制軟件
真空鍍膜室 | ||
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描述 | 不銹鋼鐘罩+304不銹鋼真空室底座 尺寸: Φ300×H415mm; | |
體積 | 0.03m3 | |
真空系統(tǒng) | ||
描述 | 采用 “分子泵+機(jī)械泵”高真空系統(tǒng): | |
分子泵 | 抽速:1200L/S,真正的準(zhǔn)無(wú)油真空系統(tǒng),采用下抽氣,避免了分子泵的抽氣弱點(diǎn),提高了抽速;分子泵保修5年,提供損壞直接換新服務(wù)。 * 可選擇進(jìn)口分子泵 | |
真空泵 | 規(guī)格:旋片真空泵, 配帶油霧過(guò)濾器, 帶氣鎮(zhèn)控制 流量:36 m3/h (21 cfm), 雙基片,真空度< 2 x 10-3 mbar 或干泵(可供選擇) * 可選配干式真空泵 | |
工作電壓 | AC 230 V / 50-60 Hz, 10 A 或AC 115 V / 50-60 Hz, 20 A (可供選擇) | |
抽速 | 從大氣抽至9×10-4Pa≤30min(短時(shí)間暴露大氣,沖入干燥氮?dú)夂箝_(kāi)始抽氣) | |
閥門 | 前級(jí)閥/旁路閥:GDQ-40高真空氣動(dòng)擋板閥; | |
真空測(cè)量 | “兩低一高”(兩只電阻規(guī)測(cè)量低真空,一只電離規(guī)測(cè)量高真空) 數(shù)顯復(fù)合真空計(jì),測(cè)量范圍從1×105Pa到1×10-5Pa;由PC顯示和控制,可實(shí)現(xiàn)操作互鎖聯(lián)動(dòng)。 * 可選配進(jìn)口寬量程真空變送器 | |
真空測(cè)量 | 部分采用金屬密封,部分采用氟橡膠圈密封; | |
基片臺(tái) | ||
描述 | 放置樣品的載物臺(tái)采用304不銹鋼制造,基片置于蒸發(fā)源正上方(全自動(dòng)升降功能),根據(jù)基片尺寸設(shè)計(jì)工裝,方便用戶固定樣品??啥ㄖ埔惑w化高精度刻蝕掩膜板; | |
旋轉(zhuǎn) | 采用步進(jìn)電機(jī)控制驅(qū)動(dòng)旋轉(zhuǎn),磁流體密封,電機(jī)和磁流體同軸,不會(huì)產(chǎn)生丟轉(zhuǎn)、爬行等情況,步進(jìn)電機(jī)控制精確,轉(zhuǎn)速范圍0-30rpm連續(xù)可調(diào); | |
升降 | 采用步進(jìn)電機(jī)控制驅(qū)動(dòng)旋轉(zhuǎn),磁流體密封,控制精確,高度范圍0-100mm連續(xù)可調(diào); | |
掩膜 | 抽屜式結(jié)構(gòu),承載最大小于120×120mm 樣品,配日本SMC氣動(dòng)基片擋板,電氣聯(lián)動(dòng)全自動(dòng)控制。 | |
鍍膜源 | ||
有機(jī)蒸發(fā)源 | 結(jié)構(gòu) | 采用有機(jī)升華束源爐,每支蒸料可裝 5CC,上部有擋熱板,防止蒸發(fā)舟熱量向上輻射,蒸發(fā)源之間設(shè)有防溫度干擾裝置(方便取放,方便清洗維護(hù))。 |
蒸發(fā)溫度 | PID智能溫度控制,可加熱至600℃,控溫精度±1℃; | |
電源 | PID智能溫控蒸發(fā)電源,帶有蒸發(fā)源測(cè)溫和功率調(diào)整系統(tǒng),可以進(jìn)行實(shí)時(shí)測(cè)溫與控溫,溫度控制精度±1℃。 | |
數(shù)量 | 2臺(tái) | |
有機(jī)蒸發(fā)電源 | 輸出功率 | 0~800W |
控制 | RS-485接口,電源功率在0-最大功率之間連續(xù)可調(diào)。 | |
數(shù)量 | 2臺(tái) | |
控制系統(tǒng) | ||
描述 | 采用windows操作平臺(tái)和cotrl2000控制系統(tǒng),采用IPC+network技術(shù),實(shí)現(xiàn)整機(jī)主要部件的參數(shù)化設(shè)置、實(shí)施實(shí)時(shí)監(jiān)控及故障智能診斷以及膜厚全自動(dòng)監(jiān)控,有自動(dòng)和手動(dòng)控制兩種模式。除取放樣品外,其它操作過(guò)程全部在PC上使用軟件控制;提供真空系統(tǒng)、工藝設(shè)置、充放氣系統(tǒng)等友好人機(jī)操作界面;在工控機(jī)上可通過(guò)配方設(shè)置參數(shù),實(shí)現(xiàn)對(duì)程序工藝過(guò)程和設(shè)備參數(shù)的設(shè)置、儲(chǔ)存和打印。 | |
特點(diǎn) | 能夠有效解決鍍膜的準(zhǔn)確、穩(wěn)定和可靠性。 完善的程序互鎖,完備的防誤操作設(shè)計(jì)及保護(hù);系統(tǒng)缺水、過(guò)流過(guò)壓等異常情況進(jìn)行報(bào)警并執(zhí)行相應(yīng)保護(hù)措施。 采用豐富I/O接口設(shè)計(jì),充分滿足擴(kuò)展與外連設(shè)備的功能需求。 顯示控制鍍膜機(jī)的艙門開(kāi)啟/關(guān)閉。 鍍膜工藝、工序、膜厚,方便并且保存打印。 | |
膜厚監(jiān)測(cè)、控制系統(tǒng) | ||
描述 | 采用石英晶振膜厚控制儀,水冷膜厚探頭安裝在基片臺(tái)附近,工控機(jī)連接。膜厚儀用以實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)鍍膜速率和終厚,精度可達(dá)±1A(0.1nm),實(shí)時(shí)信息反饋給工控機(jī) ,若鍍膜達(dá)到設(shè)置厚度,可自動(dòng)控制電源,停止鍍膜,實(shí)現(xiàn)自控膜厚之目的。 | |
范圍 | 監(jiān)測(cè)厚度范圍:1?~99μ9999?,分辨率1?;監(jiān)測(cè)速率范圍:0.1?~9999.9?.S/s,分辨率0.1? | |
特點(diǎn) | 鍍膜工藝、工序、膜厚設(shè)置均在PC上,可實(shí)現(xiàn)全過(guò)程自動(dòng)化控制,可在PC上設(shè)定鍍膜工藝,記錄數(shù)據(jù)。 | |
水冷系統(tǒng) | ||
描述 | 冷卻水路8進(jìn)8出,總進(jìn)水采用水壓繼電器控制。 總進(jìn)水與出水接1P制冷循環(huán)水機(jī),控溫范圍10–25 ℃。給靶、金屬源、分子泵、磁流體提供穩(wěn)定的制冷循環(huán)水,保證設(shè)備穩(wěn)定運(yùn)行。 | |
水冷系統(tǒng) | 冷卻水路8進(jìn)8出,總進(jìn)水采用水壓繼電器控制。 總進(jìn)水與出水接1P制冷循環(huán)水機(jī),控溫范圍10–25 ℃。給金屬源、分子泵、磁流體提供穩(wěn)定的制冷循環(huán)水,保證設(shè)備穩(wěn)定運(yùn)行。 | |
其他說(shuō)明 | ||
產(chǎn)品認(rèn)證 | ISO9001認(rèn)證、CE認(rèn)證、UL認(rèn)證 | |
質(zhì)保期 | 一年質(zhì)保期,終身維修 | |
應(yīng)用注意事項(xiàng) | 詳情參閱說(shuō)明書(shū)危險(xiǎn)、警告、注意等條款 | |
包裝尺寸(W×D×H) | ||
重量 |