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PA400e

鈣鈦礦材料、二維材料、光伏太陽(yáng)能電池及OLED器件制備等

  • PA400e研發(fā)型鍍膜機(jī)

    腔室尺寸 ≤400mm(L)×400mm(W)×600mm(H)

    極限真空 ≤3×10-5Pa 保壓12小時(shí) 壓強(qiáng)≤5Pa

    膜厚均勻性 ≥95% 重復(fù)性 ≥95%

    基片尺寸 ≤135mm×135mm  

    有19個(gè)mask位置 每個(gè)基片對(duì)應(yīng)3個(gè)位置


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