旋轉(zhuǎn)轉(zhuǎn)速：500-10000rpm
增減速率設(shè)置范圍：10rpm/s-2000rpm/s
加熱范圍：RT-200℃
聚四氟真空吸盤(pán)和鋁制吸盤(pán)，規(guī)格：1英寸，2英寸，4英寸
| 描述 | 全自動(dòng)多層鈣鈦礦旋轉(zhuǎn)涂層機(jī)適用于鈣鈦礦材料的涂膜，半導(dǎo)體、晶體、光盤(pán)、制版等表面涂覆工藝。本機(jī)實(shí)現(xiàn)滴膠、旋涂、烘干的整個(gè)過(guò)程自動(dòng)完成;可同時(shí)交替涂覆兩種薄膜，兩種液體各交替多500次，實(shí)現(xiàn)千層薄膜的涂覆。本機(jī)可用于酸、堿性涂覆溶液的涂膜制備。設(shè)備標(biāo)配不同尺寸的真空吸盤(pán)，可根據(jù)樣品尺寸不同選擇不同的真空吸盤(pán)，利用真空吸附的方式固定基片。 |
| 安裝條件 | 1、電：AC220V 50Hz，必須有良好接地。 2、氣：壓縮氣體貨自行規(guī)定的保護(hù)氣體 3、工作臺(tái)：尺寸600mm×600mm×900mm，承重50kgs以上 |
| 主要參數(shù) | 1、電源：主機(jī)24V 蠕動(dòng)泵24V 加熱：220V 50HZ 2、功率：總功率1200W 加熱：1350W 3、旋轉(zhuǎn)轉(zhuǎn)速：500-10000rpm(*小增量為1rpm。) 4、運(yùn)行程序：該機(jī)每次涂膜可分AB兩組運(yùn)行程序完成，每組程序分為六段運(yùn)行，每組程序可循環(huán)500次，兩組程序*多可涂1000層薄膜。 5、增減速率設(shè)置范圍：10rpm/s-2000rpm/s(增量為10的整數(shù)倍) 6、加熱功能： 加熱范圍：RT-200℃（腔體采用耐熱耐腐蝕的聚四氟材質(zhì)）(碳纖維加熱管) 7、聚四氟真空吸盤(pán)和鋁制吸盤(pán)，規(guī)格：1英寸，2英寸，4英寸。 |
| 產(chǎn)品規(guī)格 | 8、產(chǎn)品規(guī)格： ·尺寸：旋涂機(jī)450x400x580mm;蠕動(dòng)泵270x310x280mm； ·重量：50kg |
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