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PA36e

鈣鈦礦研究 / OLED研究 / 固態(tài)電池研究 / 可集成手套箱

  • PA36e熱蒸發(fā)鍍膜機

    腔室尺寸 360×500mm(H)

    極限真空 ≤3×10-5Pa 保壓12小時 壓強≤5Pa

    膜厚均勻性 ≥95% 重復性 ≥95%

    基片尺寸 ≤100mm×100mm

    有9個mask位置 每個基片對應3個位置

    全自動控制軟件

可選配置

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詳細參數(shù)

真空鍍膜室

描述

不銹鋼鐘罩+304不銹鋼真空室底座

尺寸: Φ300×H415mm;

體積0.03m3
真空系統(tǒng)
描述

采用 “分子泵+機械泵”高真空系統(tǒng):

分子泵抽速:1200L/S,真正的準無油真空系統(tǒng),采用下抽氣,避免了分子泵的抽氣弱點,提高了抽速;分子泵保修5年,提供損壞直接換新服務。
 * 可選擇進口分子泵
真空泵

規(guī)格:旋片真空泵,  配帶油霧過濾器, 帶氣鎮(zhèn)控制

流量:36 m3/h (21 cfm), 雙基片,真空度< 2 x 10-3 mbar  或干泵(可供選擇)

* 可選配干式真空泵

工作電壓AC 230 V / 50-60 Hz, 10 A 或AC 115 V / 50-60 Hz, 20 A (可供選擇)
抽速

從大氣抽至9×10-4Pa≤30min(短時間暴露大氣,沖入干燥氮氣后開始抽氣)

閥門

前級閥/旁路閥:GDQ-40高真空氣動擋板閥;

真空測量

“兩低一高”(兩只電阻規(guī)測量低真空,一只電離規(guī)測量高真空) 數(shù)顯復合真空計,測量范圍從1×105Pa到1×10-5Pa;由PC顯示和控制,可實現(xiàn)操作互鎖聯(lián)動。

* 可選配進口寬量程真空變送器

真空測量

部分采用金屬密封,部分采用氟橡膠圈密封;

基片臺
描述放置樣品的載物臺采用304不銹鋼制造,基片置于蒸發(fā)源正上方(全自動升降功能),根據(jù)基片尺寸設計工裝,方便用戶固定樣品??啥ㄖ埔惑w化高精度刻蝕掩膜板;
旋轉采用步進電機控制驅動旋轉,磁流體密封,電機和磁流體同軸,不會產(chǎn)生丟轉、爬行等情況,步進電機控制精確,轉速范圍0-30rpm連續(xù)可調;
升降采用步進電機控制驅動旋轉,磁流體密封,控制精確,高度范圍0-100mm連續(xù)可調;
掩膜抽屜式結構,承載最大小于120×120mm 樣品,配日本SMC氣動基片擋板,電氣聯(lián)動全自動控制。

鍍膜源

有機蒸發(fā)源

結構

采用有機升華束源爐,每支蒸料可裝 5CC,上部有擋熱板,防止蒸發(fā)舟熱量向上輻射,蒸發(fā)源之間設有防溫度干擾裝置(方便取放,方便清洗維護)。

蒸發(fā)溫度PID智能溫度控制,可加熱至600℃,控溫精度±1℃;
電源PID智能溫控蒸發(fā)電源,帶有蒸發(fā)源測溫和功率調整系統(tǒng),可以進行實時測溫與控溫,溫度控制精度±1℃。

數(shù)量

2臺

有機蒸發(fā)電源

輸出功率

0~800W

控制RS-485接口,電源功率在0-最大功率之間連續(xù)可調。

數(shù)量

2臺

控制系統(tǒng)
描述采用windows操作平臺和cotrl2000控制系統(tǒng),采用IPC+network技術,實現(xiàn)整機主要部件的參數(shù)化設置、實施實時監(jiān)控及故障智能診斷以及膜厚全自動監(jiān)控,有自動和手動控制兩種模式。除取放樣品外,其它操作過程全部在PC上使用軟件控制;提供真空系統(tǒng)、工藝設置、充放氣系統(tǒng)等友好人機操作界面;在工控機上可通過配方設置參數(shù),實現(xiàn)對程序工藝過程和設備參數(shù)的設置、儲存和打印。
特點

能夠有效解決鍍膜的準確、穩(wěn)定和可靠性。

完善的程序互鎖,完備的防誤操作設計及保護;系統(tǒng)缺水、過流過壓等異常情況進行報警并執(zhí)行相應保護措施。

采用豐富I/O接口設計,充分滿足擴展與外連設備的功能需求。

顯示控制鍍膜機的艙門開啟/關閉。

鍍膜工藝、工序、膜厚,方便并且保存打印。

膜厚監(jiān)測、控制系統(tǒng)

描述采用石英晶振膜厚控制儀,水冷膜厚探頭安裝在基片臺附近,工控機連接。膜厚儀用以實時監(jiān)測鍍膜速率和終厚,精度可達±1A(0.1nm),實時信息反饋給工控機 ,若鍍膜達到設置厚度,可自動控制電源,停止鍍膜,實現(xiàn)自控膜厚之目的。
范圍監(jiān)測厚度范圍:1?~99μ9999?,分辨率1?;監(jiān)測速率范圍:0.1?~9999.9?.S/s,分辨率0.1?

特點

鍍膜工藝、工序、膜厚設置均在PC上,可實現(xiàn)全過程自動化控制,可在PC上設定鍍膜工藝,記錄數(shù)據(jù)。

水冷系統(tǒng)

描述

冷卻水路8進8出,總進水采用水壓繼電器控制。

總進水與出水接1P制冷循環(huán)水機,控溫范圍10–25 ℃。給靶、金屬源、分子泵、磁流體提供穩(wěn)定的制冷循環(huán)水,保證設備穩(wěn)定運行。

水冷系統(tǒng)

冷卻水路8進8出,總進水采用水壓繼電器控制。

總進水與出水接1P制冷循環(huán)水機,控溫范圍10–25 ℃。給金屬源、分子泵、磁流體提供穩(wěn)定的制冷循環(huán)水,保證設備穩(wěn)定運行。

其他說明
產(chǎn)品認證

ISO9001認證、CE認證、UL認證

質保期一年質保期,終身維修
應用注意事項詳情參閱說明書危險、警告、注意等條款
包裝尺寸(W×D×H) 
重量 
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